标题 |
Ferroelectric FET with Gd-doped HfO2: A Step Towards Better Uniformity and Improved Memory Performance
含掺Eu的OfO2铁电场效应晶体管:迈向更好均匀性和改进存储器性能的一步
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DOI |
10.1109/snw51795.2021.00012
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其它 |
期刊:IEEE Silicon Nanoelectronics Workshop 作者:N. Ronchi; Lars‐Åke Ragnarsson; L. Breuil; Kaustuv Banerjee; S. R. C. McMitchell; et al 出版日期:2021-06-13 |
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