A novel approach to reduce the oxygen content in Monocrystalline silicon by Czochralski method

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标题	A novel approach to reduce the oxygen content in Monocrystalline silicon by Czochralski method 直拉法降低单晶硅中氧含量的新方法相关领域单晶硅坩埚（大地测量学）硅薄脆饼极限氧浓度氧气晶体硅材料科学微下拉化学纳米技术矿物学冶金有机化学计算化学
网址	https://doi.org/10.1016/j.jcrysgro.2024.127608
DOI	10.1016/j.jcrysgro.2024.127608 doi
其它	期刊：Journal of Crystal Growth 作者：Jiancheng Li; Junlei Wang; Lijun Liu; Yanwei Wen; Wang Chang-zhen 出版日期：2024-02-01
求助人	毒角show 在 2024-02-18 13:27:47 发布自浙江，悬赏 10 积分
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