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Effect of rotation of abrasives on material removal in chemical mechanical polishing using a proposed three-body model:Molecular dynamics simulation
基于三体模型的化学机械抛光中磨料旋转对材料去除的影响:分子动力学模拟
相关领域
分子动力学
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期刊:Tribology International 作者:Ruling Chen; Pengju Zhou; Hui Li 出版日期:2024-04-01 |
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