New Concept for the Development of High-Performance X-ray Lithography

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标题	New Concept for the Development of High-Performance X-ray Lithography 高性能X射线光刻技术发展的新概念相关领域平版印刷术材料科学 X射线光刻开发（拓扑）极紫外光刻纳米技术计算机科学工程物理光电子学抵抗物理数学分析数学图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1134/s1063739724600511
DOI	10.1134/s1063739724600511 doi
其它	期刊：Russian Microelectronics 作者：Н. И. Чхало 出版日期：2024-10-01
求助人	chaohuiwang 在 2025-01-02 09:22:41 发布自吉林，悬赏 10 积分
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