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 Characteristics of carbon-containing low-k dielectric SiCN thin films deposited via remote plasma atomic layer deposition 远距离等离子体原子层沉积含碳低k介电SiCN薄膜的特性
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期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Chanwon Jung; Seokhwi Song; Hyun-Woo Park; Youngjoon Kim; Eun Jong Lee; et al 出版日期：2021-06-24 |
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