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 The dependence of AlN molar fraction of AlGaN in wet etching by using tetramethylammonium hydroxide aqueous solution 四甲基氢氧化铵水溶液湿法刻蚀AlGaN中AlN摩尔分数的依赖性
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期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Shinji Yasue; Kosuke Sato; Yuta Kawase; Junya Ikeda; Yusuke Sakuragi; et al 出版日期：2019-05-23 |
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