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 Heteroleptic Tin(IV) Aminoalkoxides and Aminofluoroalkoxides as MOCVD Precursors for Undoped and F-Doped SnO2 Thin Films 杂配锡（IV）氨基醇盐和氨基氟醇盐作为未掺杂和F掺杂SnO2薄膜的MOCVD前驱体
相关领域
化学
锡
兴奋剂
金属有机气相外延
薄膜
纳米技术
光电子学
有机化学
外延
图层（电子）
物理
材料科学
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| 其它 |
期刊：Inorganic Chemistry 作者：Alexandre Verchère; Shashank Mishra; Erwann Jeanneau; Hervé Guillon; Jean-Manuel Decams; et al 出版日期：2020-04-27 |
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