标题 |
Optimization of residual stresses inside diamond thin films grown by hot filament chemical vapor deposition (HFCVD)
热丝化学气相沉积金刚石薄膜内部残余应力的优化
相关领域
化学气相沉积
钻石
材料科学
残余应力
微晶
薄膜
复合材料
碳膜
极限抗拉强度
纳米技术
化学
结晶学
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DOI | |
其它 |
期刊:Diamond and Related Materials 作者:Mike Kh. Haddad; Onur Kurtulus; M. Mertens; Kai Brühne; P. Gluche; et al 出版日期:2023-01-01 |
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