Optimization of residual stresses inside diamond thin films grown by hot filament chemical vapor deposition (HFCVD)

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标题	Optimization of residual stresses inside diamond thin films grown by hot filament chemical vapor deposition (HFCVD) 热丝化学气相沉积金刚石薄膜内部残余应力的优化相关领域化学气相沉积钻石材料科学残余应力微晶薄膜复合材料碳膜极限抗拉强度纳米技术化学结晶学
网址	https://doi.org/10.1016/j.diamond.2022.109564
DOI	10.1016/j.diamond.2022.109564 doi
其它	期刊：Diamond and Related Materials 作者：Mike Kh. Haddad; Onur Kurtulus; M. Mertens; Kai Brühne; P. Gluche; et al 出版日期：2023-01-01
求助人	小李在 2024-09-28 18:19:44 发布自河南，悬赏 10 积分
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