Stress Generation in PECVD Silicon Nitride Thin Films for Microelectronics Applications

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标题	Stress Generation in PECVD Silicon Nitride Thin Films for Microelectronics Applications 微电子用PECVD氮化硅薄膜的应力产生
网址	http://dx.doi.org/10.1557/PROC-863-B7.9/O11.9
DOI	10.1557/PROC-863-B7.9/O11.9 doi
求助人	笑笑在 2025-02-17 15:24:06 发布自湖北，悬赏 10 积分
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