Plasma Parameters and Etching Kinetics of Si/SiO2 in Mixtures of Fluorocarbon Gases with Argon and Helium

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标题	Plasma Parameters and Etching Kinetics of Si/SiO2 in Mixtures of Fluorocarbon Gases with Argon and Helium Si/SiO2在氩氦氟混合气体中的等离子体参数和刻蚀动力学相关领域氟碳化合物氩材料科学氦动力学蚀刻（微加工）等离子体等离子体刻蚀原子物理学化学物理纳米技术复合材料化学物理核物理学量子力学图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1134/s1063739724600535
DOI	10.1134/s1063739724600535 doi
其它	期刊：Russian Microelectronics 作者：Alexander Efremov; В. Б. Бетелин; Kwang‐Ho Kwon 出版日期：2024-12-01
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