Halogen Etch of Ti3AlC2 MAX Phase for MXene Fabrication - 科研通

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标题	Halogen Etch of Ti3AlC2 MAX Phase for MXene Fabrication 用于MXene制造的Ti3AlC2 MAX相的卤离子蚀刻相关领域 MXenes公司材料科学卤素蚀刻（微加工）无水的制作化学工程溶剂相（物质）纳米技术图层（电子）化学有机化学烷基病理替代医学工程类医学
网址	https://doi.org/10.1021/acsnano.0c08630
DOI	10.1021/acsnano.0c08630 doi
其它	期刊：ACS Nano 作者：Ali M. Jawaid; Asra Hassan; Gregory Neher; Dhriti Nepal; Ruth Pachter; et al 出版日期：2021-01-27
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