| 标题 |
[求助补充材料]
  Protocol for depositing transparent conductive Ta-doped SnO2 film by hollow cathode gas flow sputtering technology 空心阴极气流溅射技术沉积掺Ta透明导电SnO2薄膜的方案
相关领域
溅射
阴极
材料科学
兴奋剂
光电子学
导电体
透明导电膜
流量（数学）
纳米技术
薄膜
复合材料
电气工程
工程类
几何学
数学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 求助人 | |
| 下载 | |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
劲秉
科研小民工
昏睡的蟠桃
cdercder
一一
pluto
yanzu
Cactus
snowy
子车茗
tramp
zho
iNk
默默地读文献
随遇而安
nozero
SYLH
kingwill
勤恳丹妗
眯眯眼的衬衫
皖公网安备34019202002308
