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Protocol for depositing transparent conductive Ta-doped SnO2 film by hollow cathode gas flow sputtering technology

溅射阴极材料科学兴奋剂光电子学导电体透明导电膜流量（数学）纳米技术薄膜复合材料电气工程工程类几何学数学

作者

Fangfang Huo,Manuel Hartig,Bertwin Bilgrim Otto Seibertz,Nivin Alktash,Ruslan Muydninov,Can Wang,Peng Gao,Bernd Szyszka

出处

期刊：STAR protocols [Elsevier]
日期：2024-12-01 卷期号：5 (4): 103489-103489

链接

doi.org nih.govdoi.org

标识

DOI：10.1016/j.xpro.2024.103489

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