Ultra-high throughput electron beam lithography for wafer size nanoimprint mold fabrication

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标题	Ultra-high throughput electron beam lithography for wafer size nanoimprint mold fabrication 超高通量电子束光刻技术用于晶圆尺寸纳米压印模具的制作相关领域纳米压印光刻电子束光刻材料科学薄脆饼抵抗模具偏转（物理）图像拼接制作平版印刷术纳米光刻光电子学纳米技术光学复合材料图层（电子）医学替代医学物理病理
网址	https://doi.org/10.1117/12.2684952
DOI	10.1117/12.2684952 doi
其它	期刊：作者：Takumi Ito; Toshio Watanabe; Satoshi Nagai; Sung-Won Youn; Kenta Suzuki; et al 出版日期：2023-09-29
求助人	Frank 在 2023-10-16 10:23:33 发布自伊朗，悬赏 10 积分
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