标题 |
Exploration of structural influences on ferroelectric switching characteristics in ferroelectric thin-film transistors
结构对铁电薄膜晶体管铁电开关特性影响的探讨
相关领域
铁电性
材料科学
晶体管
光电子学
铁电电容器
纳米技术
电气工程
电介质
电压
工程类
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其它 |
期刊:Nanoscale 作者:H. J. Yang; Sejun Park; Sanghyuk Yun; Hae-Sung Kim; Ha Neul Lee; et al 出版日期:2024-01-01 |
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