Polymer Films' Residual Stress Attenuation from the Supramolecular Complexation with Ultra‐Small Nanoparticles for High Resolution Nanoimprint Lithography

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标题	Polymer Films' Residual Stress Attenuation from the Supramolecular Complexation with Ultra‐Small Nanoparticles for High Resolution Nanoimprint Lithography 超小纳米粒子超分子络合对高分辨率纳米压印光刻聚合物薄膜残余应力衰减的影响相关领域材料科学纳米压印光刻聚合物残余应力薄脆饼纳米技术铸造平版印刷术复合材料制作光电子学医学替代医学病理
网址	https://doi.org/10.1002/anie.202416759
DOI	10.1002/anie.202416759 doi
其它	期刊：Angewandte Chemie 作者：Jiadong Chen; Shenglin Yao; Bin Wang; Qiang Yu; Binghui Xue; et al 出版日期：2024-12-23
求助人	towerman 在 2024-12-25 20:24:56 发布自湖南，悬赏 10 积分
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