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Low-Capacitance, High-CDM ESD Protection Design with FEOL and BEOL Co-Optimization in 4nm Bulk FinFET Technology
4nm Bulk FinFET技术中FEOL和BEOL协同优化的低电容、高CDM ESD保护设计
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期刊: 作者:Yi-Feng Chang; Han-Jen Yang; Tzu-Heng Chang; Jam-Wem Lee; Kuo-Ji Chen 出版日期:2022-09-18 |
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