Low-Capacitance, High-CDM ESD Protection Design with FEOL and BEOL Co-Optimization in 4nm Bulk FinFET Technology

电容 稳健性(进化) 静电放电 材料科学 光电子学 寄生电容 电气工程 CMOS芯片 欧姆 电子工程 工程类 物理 化学 电极 电压 生物化学 量子力学 基因
作者
Yi-Feng Chang,Han-Jen Yang,Tzu-Heng Chang,Jam-Wem Lee,Kuo-Ji Chen
标识
DOI:10.23919/eos/esd54763.2022.9928456
摘要

In this paper, a low-capacitance silicon-controlled rectifier (LCSCR) structure with high-CDM robustness are proposed for high-speed I/O ESD protection. The LCSCR implemented with TSMC 4nm bulk FinFET technology can achieve high ESD robustness $(\gt 9\mathrm{A})$, low capacitance $(\lt 120$ fF) and low dynamic on-resistance $(\lt 0.5$ ohm) with compact geometry.
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