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Room-temperature deposition of a poling-free ferroelectric AlScN film by reactive sputtering
反应溅射室温沉积无极化AlScN铁电薄膜
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期刊:Applied Physics Letters 作者:Sung-Lin Tsai; Takuya Hoshii; Hitoshi Wakabayashi; Kazuo Tsutsui; Tien‐Kan Chung; et al 出版日期:2021-02-22 |
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