标题 |
Thickness-dependent structural and growth evolution in relation to dielectric relaxation behavior and correlated barrier hopping conduction mechanism in Ni0.5Co0.5Fe2O4 ferrite thin films
Ni0.5Co 0.5 Fe2O4铁氧体薄膜的厚度相关结构和生长演化与介电弛豫行为及相关势垒跳跃传导机制的关系
相关领域
电介质
材料科学
凝聚态物理
热传导
铁氧体(磁铁)
放松(心理学)
介电损耗
薄膜
活化能
核磁共振
复合材料
光电子学
纳米技术
化学
心理学
社会心理学
物理
有机化学
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Journal of Physics Condensed Matter 作者:Somnath Sahu; Shashi Priya Balmuchu; Pamu Dobbidi 出版日期:2024-11-14 |
求助人 | |
下载 | |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|