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Reaction of Si with HCl to Form Chlorosilanes
硅与HCl反应生成氯硅烷
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期刊:Journal of The Electrochemical Society 作者:Suguru Noda; Katsuaki Tanabe; Takashi Yahiro; Toshio Osawa; Hiroshi Komiyama 出版日期:2004-01-01 |
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