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The electrostatics of Ta2O5 in Si-based metal oxide semiconductor devices
Ta2O5在硅基金属氧化物半导体器件中的静电学
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期刊:Journal of applied physics 作者:Lior Kornblum; B. Meyler; J. Salzman; M. Eizenberg 出版日期:2013-02-20 |
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