Optical proximity correction of hot-spot patterns with subwavelength size in DMD maskless projection lithography

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标题	Optical proximity correction of hot-spot patterns with subwavelength size in DMD maskless projection lithography DMD无掩模投影光刻中亚波长尺寸热点图案的光学邻近校正相关领域光学接近校正无光罩微影数字微镜装置平版印刷术光掩模失真（音乐）光学投影（关系代数）临界尺寸光刻薄脆饼计算光刻材料科学邻近效应（电子束光刻）光电子学电子束光刻 X射线光刻物理计算机科学纳米技术抵抗 CMOS芯片放大器算法图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1364/ol.516507
DOI	10.1364/ol.516507 doi
其它	期刊：Optics Letters 作者：Xuan‐Ming Duan; Xu Guo; Jing Chen; Yuanyuan Zhao; SHUN-CHENG CAI 出版日期：2024-02-02
求助人	momo 在 2024-08-08 14:11:38 发布自安徽，悬赏 10 积分
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