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 Optical proximity correction of hot-spot patterns with subwavelength size in DMD maskless projection lithography DMD无掩模投影光刻中亚波长尺寸热点图案的光学邻近校正
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无光罩微影
数字微镜装置
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期刊：Optics Letters 作者：Xuan‐Ming Duan; Xu Guo; Jing Chen; Yuanyuan Zhao; SHUN-CHENG CAI 出版日期：2024-02-02 |
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