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 Novel Approach to High κ (∼59) and Low EOT (∼3.8 Å) near the Morphotrophic Phase Boundary with AFE/FE (ZrO2/HZO) Bilayer Heterostructures and High-Pressure Annealing 利用ADE/FE（ZrO 2/HZR）双层杂结构和高压热处理形态营养相界附近的高k（ð 59）和低OT（ð 3.8 ð 3.8）的新方法
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期刊：ACS Applied Materials & Interfaces 作者：V. Gaddam; Giuk Kim; Taeho Kim; Minhyun Jung; Chaeheon Kim; et al 出版日期：2022-09-15 |
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