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 Influence of radio-frequency magnetron sputtering power on electrical characteristics and positive bias stress stability of indium tin zinc oxide thin-film transistors 射频磁控溅射功率对铟锡锌氧化物薄膜晶体管电学特性和正偏压稳定性的影响
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期刊：Semiconductor Science and Technology 作者：Feilian Chen; Yunhao Wan; Paramasivam Balasubramanian; Meng Zhang 出版日期：2024-12-02 |
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