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![]() TiN缓冲层对硅衬底MOCVD生长Zn掺杂β-Ga2O3深紫外光探测器性能的提高
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期刊:Applied Surface Science 作者:Anoop Kumar Singh; Jun-Hong Shen; Shi‐Ming Huang; Chao-Chun Yen; Hsin-Yu Chou; et al 出版日期:2024-10-12 |
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