标题 |
Spin-on organic hardmask for topo-patterned substrate
用于拓扑图案化衬底的旋涂有机硬掩模
相关领域
化学机械平面化
材料科学
旋涂
基质(水族馆)
化学气相沉积
光刻胶
光电子学
纳米技术
光刻
薄膜
图层(电子)
海洋学
地质学
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其它 |
期刊:Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者:Kazuhiko Komura; Yoshi Hishiro; Goji Wakamatsu; Yoshio Takimoto; Tomoki Nagai; et al 出版日期:2014-03-27 |
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