Improved Ferroelectricity and Endurance of Hf0.5Zr0.5O2 Thin Films in Low Thermal Budget with Novel Bottom Electrode Doping Technology

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标题	Improved Ferroelectricity and Endurance of Hf0.5Zr0.5O2 Thin Films in Low Thermal Budget with Novel Bottom Electrode Doping Technology 新型底部电极掺杂技术提高Hf0.5Zr 0.5 O2薄膜的低热收支铁电性和耐久性相关领域材料科学铁电性锡退火（玻璃）电容器兴奋剂光电子学电极极化（电化学）薄膜电压纳米技术复合材料电气工程冶金电介质化学物理化学工程类
网址	https://doi.org/10.1002/admi.202102351
DOI	10.1002/admi.202102351 doi
其它	期刊：Advanced Materials Interfaces 作者：Guoliang Tian; Gaobo Xu; Huaxiang Yin; Gangping Yan; Zhaohao Zhang; et al 出版日期：2022-07-28
求助人	YiAn-horizon 在 2024-10-08 09:55:31 发布自山东，悬赏 10 积分
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