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A P-Type Enrichment/High Voltage N-Well Junction Si-SPAD With Enhanced Near-Infrared Sensitivity in 180 nm BCD Technology
180 nm BCD技术中具有增强近红外灵敏度的P型富集/高压N阱结Si-SPAD
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期刊:IEEE Electron Device Letters 作者:Dajing Bian; Danlu Liu; Jie Dong; Feng Yuan; Yue Xu 出版日期:2023-12-28 |
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