On the formation of black silicon in SF6-O2 plasma: The clear, oxidize, remove, and etch (CORE) sequence and black silicon on demand

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标题	On the formation of black silicon in SF6-O2 plasma: The clear, oxidize, remove, and etch (CORE) sequence and black silicon on demand SF6-O2等离子体中黑硅的形成：清除、氧化、去除和蚀刻（核心）序列和黑硅按需
网址	https://doi.org/10.1116/6.0000196
DOI	10.1116/6.0000196 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films 作者：Vy Thi Hoang Nguyen; Flemming Jensen; Jörg Hübner; Pele Leussink; Henri Jansen 出版日期：2020
求助人	Astro 在 2025-02-16 16:54:01 发布自四川，悬赏 10 积分
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