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 Etch Mechanism Study in Gate Patterning for 14 nm Node and beyond FinFET Devices 14 nm及以上FinFET器件栅极图案化蚀刻机理研究
相关领域
材料科学
光电子学
制作
金属浇口
平版印刷术
光刻
蚀刻（微加工）
可靠性（半导体）
纳米技术
节点（物理）
栅氧化层
电气工程
晶体管
图层（电子）
工程类
电压
病理
功率（物理）
物理
医学
结构工程
替代医学
量子力学
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| 其它 |
期刊：ECS Journal of Solid State Science and Technology 作者：Lingkuan Meng; Yan Jiang 出版日期：2017-01-01 |
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