标题 |
The effects of crystallographic orientation and strain of thin Hf0.5Zr0.5O2 film on its ferroelectricity
Hf0.5Zr 0.5 O2薄膜的晶向和应变对其铁电性的影响
相关领域
薄膜
凝聚态物理
压电响应力显微镜
微晶
电介质
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Applied Physics Letters 作者:Min Hyuk Park; Han Joon Kim; Yu Jin Kim; Taehwan Moon; Cheol Seong Hwang 出版日期:2014-02-18 |
求助人 | |
下载 | 求助已完成,仅限求助人下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|