标题 |
Metalorganic chemical vapor deposition of III-V semiconductors
III-V族半导体的金属有机化学气相沉积
相关领域
金属有机气相外延
化学气相沉积
锑
外延
第2组金属有机化学
半导体
沉积(地质)
半导体材料
材料科学
光电子学
化学
纳米技术
分子
有机化学
地质学
古生物学
图层(电子)
沉积物
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Journal of Applied Physics 作者:M. J. Ludowise 出版日期:1985-10-15 |
求助人 | |
下载 | |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|