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标题
Fabrication and characterization of modulation-doped β-(AlxGa1−x)2O3/Ga2O3 tri-metal FET utilizing ultra-high vacuum deposition based on plasma-assisted molecular beam epitaxy
基于等离子体辅助分子束外延的超高真空沉积调制掺杂β-（AlxGa1-x）2O3/Ga2O3三金属FET的制备与表征
相关领域
材料科学 分子束外延 制作 兴奋剂 光电子学 表征（材料科学） 沉积（地质） 等离子体 调制（音乐） 外延 纳米技术 美学 生物 沉积物 量子力学 病理 图层（电子） 物理 替代医学 哲学 古生物学 医学
网址
https://doi.org/10.1007/s10854-024-13430-6
DOI
10.1007/s10854-024-13430-6 doi
其它 期刊：Journal of Materials Science Materials in Electronics
作者：V. N. Senthil Kumaran; M. Venkatesh; Azath Mubarakali; Abdulrahman Saad Alqahtani; P. Parthasarathy
出版日期：2024-09-01
求助人
慎独而已 在 2024-11-26 20:35:32 发布自湖北，悬赏 10 积分
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