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[高分] Study of electrical properties of Al/Si3N4/n-GaAs MIS capacitors deposited at low and high frequency PECVD
低频和高频PECVD沉积Al/Si3N4/n-GaAs MIS电容器的电学性能研究
相关领域
等离子体增强化学气相沉积
钝化
材料科学
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硅
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图层(电子)
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期刊:The European Physical Journal Applied Physics 作者:Wafaa Zibar; Olivier Richard; Asmaa Drighil; T. Lachhab; Hasna Mziouek; et al 出版日期:2022-01-01 |
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