In vacuo investigations on the nucleation of TaCN by plasma enhanced atomic layer deposition

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标题	In vacuo investigations on the nucleation of TaCN by plasma enhanced atomic layer deposition 等离子体增强原子层沉积TaCN成核的真空研究相关领域 X射线光电子能谱成核钽氮化钽原子层沉积基质（水族馆）材料科学图层（电子）碳化钽氧化物吸附化学工程分析化学（期刊）沉积（地质）碳化物纳米技术化学物理化学冶金有机化学古生物学海洋学沉积物地质学工程类生物
网址	https://doi.org/10.1016/j.mee.2019.03.005
DOI	10.1016/j.mee.2019.03.005 doi
其它	期刊：Microelectronic Engineering 作者：Johanna Reif; Martin Knaut; Sebastian Killge; Matthias Albert; Johann W. Bartha 出版日期：2019-03-18
求助人	等等在 2024-11-06 15:33:03 发布自河南，悬赏 10 积分
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