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In vacuo investigations on the nucleation of TaCN by plasma enhanced atomic layer deposition
等离子体增强原子层沉积TaCN成核的真空研究
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期刊:Microelectronic Engineering 作者:Johanna Reif; Martin Knaut; Sebastian Killge; Matthias Albert; Johann W. Bartha 出版日期:2019-03-18 |
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