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 Spatial characterization of wafer state using principal component analysis of optical emission spectra in plasma etch 等离子体刻蚀中光发射光谱的主成分分析对晶片状态的空间表征
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期刊：IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing 作者：David A. White; Duane S. Boning; Stephanie Watts Butler; Gabriel G. Barna 出版日期：1997-01-01 |
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