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 Selective etching of GaAs and Al0.30Ga0.70As with citric acid/hydrogen peroxide solutions 柠檬酸/过氧化氢溶液选择性刻蚀GaAs和Al0.30Ga 0.70 As
相关领域
柠檬酸
过氧化氢
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蚀刻（微加工）
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期刊：Journal of vacuum science & technology. B, Microelectronics processing and phenomena 作者：Ching‐Bo Juang; Kelin J. Kuhn; Robert M. Darling 出版日期：1990-09-01 |
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