Gate dielectric formation and MIS interface characterization on Ge

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标题	Gate dielectric formation and MIS interface characterization on Ge Ge栅介质形成及MIS界面表征相关领域接口（物质）材料科学电介质表征（材料科学）光电子学锗渗氮纳米技术图层（电子）硅复合材料毛细管数毛细管作用
网址	https://doi.org/10.1016/j.mee.2007.04.129
DOI	10.1016/j.mee.2007.04.129 doi
其它	期刊：Microelectronic engineering 作者：Shinichi Takagi; Tatsuro Maeda; Noriyuki Taoka; Masatoyo Nishizawa; Yukinori Morita; et al 出版日期：2007-09-01
求助人	奔流的河在 2024-04-08 09:29:57 发布自河北，悬赏 10 积分
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