Dual Functionality of DTPMP and OHA: Enhancement in Removal Rates and Excellent Surface Quality of Cobalt CMP

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标题	Dual Functionality of DTPMP and OHA: Enhancement in Removal Rates and Excellent Surface Quality of Cobalt CMP DTPMP和OHA的双重功能：提高钴CMP的去除率和优异的表面质量相关领域钴对偶（语法数字）质量（理念）化学材料科学化学工程无机化学物理工程类艺术文学类量子力学
网址	https://doi.org/10.1016/j.electacta.2024.145591
DOI	10.1016/j.electacta.2024.145591 doi
其它	期刊：Electrochimica Acta 作者：Liunan She; Yingqi Di; Le Zhai; Jie Cheng; Guofeng Pan; et al 出版日期：2024-12-01
求助人	感动的听荷在 2025-04-29 14:30:30 发布自吉林，悬赏 10 积分
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