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标题
具有亚纳米级侧壁粗糙度的Cl2–Ar等离子体中GaN微观结构的ICP蚀刻
相关领域
材料科学 刻面 表面粗糙度 基质(水族馆) 表面光洁度 微观结构 蚀刻(微加工) 外延 各向同性腐蚀 等离子体 光电子学 等离子体刻蚀 腐蚀坑密度 复合材料
网址
DOI
10.1016/j.mssp.2022.106564 doi
求助人
戚魂幽 在 2022-07-15 14:37:02 发布自江苏,悬赏 10 积分
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