Next generation ferroelectric materials for semiconductor process integration and their applications

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标题	Next generation ferroelectric materials for semiconductor process integration and their applications 相关领域铁电性材料科学半导体光电子学纳米技术工程物理过程（计算）电介质计算机科学工程类操作系统
网址	https://doi.org/10.1063/5.0037617
DOI	10.1063/5.0037617 doi
其它	期刊：Journal of Applied Physics 作者：T. Mikolajick; S. Slesazeck; H. Mulaosmanovic; M. H. Park; S. Fichtner; et al 出版日期：2021
求助人	全职划水运动员在 2021-06-01 10:25:17 发布，悬赏 10 积分
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