BEOL-Compatible In2O3 Thin-Film Transistor with Linear Dielectric ZrO2 Achieving Dielectric Constant over 27 and Enhanced Field-Effect Mobility Up To 89.3 cm2·V−1·s−1

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标题	BEOL-Compatible In2O3 Thin-Film Transistor with Linear Dielectric ZrO2 Achieving Dielectric Constant over 27 and Enhanced Field-Effect Mobility Up To 89.3 cm2·V−1·s−1 具有线性电介质ZrO2的BEOL兼容In2O3薄膜晶体管，介电常数超过27，场效应迁移率增强至89.3 cm2·V-1·S-1 相关领域电介质材料科学高-κ电介质光电子学晶体管介电常数场效应晶体管栅极电介质电子迁移率电气工程工程类电压
网址	http://xplorestaging.ieee.org/ielx8/10638791/10638792/106392...
DOI	10.1109/snw63608.2024.10639205 doi
其它	期刊：2024 IEEE Silicon Nanoelectronics Workshop (SNW) 作者：Zehao Lin; Peide D. Ye 出版日期：2024-08-24
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