标题 |
![]() AlN、AlxGa1-xN和GaN晶体的KOH基选择性湿化学蚀刻:深紫外发光二极管衬底去除方法
相关领域
小丘
材料科学
光电子学
紫外线
各向同性腐蚀
基质(水族馆)
氢氧化钾
发光二极管
二极管
选择性
溶解
氢氧化物
蚀刻(微加工)
化学工程
无机化学
图层(电子)
化学
纳米技术
复合材料
海洋学
地质学
生物化学
工程类
催化作用
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Applied Physics Letters 作者:Wei Guo; Ronny Kirste; Isaac Bryan; Zachary Bryan; Lindsay Hussey; et al 出版日期:2015-02-23 |
求助人 | |
下载 | 求助已完成,仅限求助人下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|