标题 |
Stress-induced-voiding risk factor and stress migration model for Cu interconnect reliability
铜互连可靠性的应力诱导空隙危险因子和应力迁移模型
相关领域
压力(语言学)
可靠性工程
材料科学
估计
可靠性(半导体)
计算机科学
风险因素
互连
工程类
物理
计算机网络
医学
内科学
哲学
功率(物理)
量子力学
语言学
系统工程
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:International Reliability Physics Symposium 作者:H. W. Yao; Patrick Justison; J. Poppe 出版日期:2013-04-14 |
求助人 | |
下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|