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 Y shape gate formation in single layer of ZEP520A using 3D electron beam lithography 利用三维电子束光刻在ZEP520A单层中形成Y形栅极
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期刊：Microelectronic engineering 作者：Jinhai Shao; Sichao Zhang; Jianpeng Liu; Bing-Rui Lu; Nit Taksatorn; et al 出版日期：2015-08-01 |
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