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 Functional underlayers for dose reduction and collapse mitigation in EUV lithography: a factorial analysis EUV光刻中用于剂量降低和塌陷缓解的功能底层：析因分析
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期刊： 作者：Roberto Fallica; Huang Wei-zhong; Hyo Seon Suh; Danilo De Simone; Douglas J. Guerrero; et al 出版日期：2023-11-21 |
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