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Effect of H Plasma Treatment of the Nucleation Layer on AlN Epitaxy in Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition
氢等离子体处理成核层对微波等离子体化学气相沉积AlN外延的影响
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期刊:Crystal Growth & Design 作者:Yanhui Xing; Shengyuan Dong; Xuan Zhang; Yao Zhang; Jun Han; et al 出版日期:2023-03-14 |
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