标题 |
Aluminum‐induced plasma membrane surface potential and H+‐ATPase activity in near‐isogenic wheat lines differing in tolerance to aluminum
铝诱导不同耐铝性小麦近等基因系质膜表面电位和H+-ATP酶活性的研究
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期刊:New Phytologist 作者:S. J. Ahn; Z. Rengel; H. Matsumoto 出版日期:2004-12-28 |
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