Low-voltage aberration-corrected SEM metrology of thin resist for high-NA EUVL

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标题	[高分] Low-voltage aberration-corrected SEM metrology of thin resist for high-NA EUVL 高钠EUVL薄抗蚀剂的低压像差校正SEM计量相关领域抵抗计量学极紫外光刻平版印刷术光学临界尺寸材料科学数值孔径薄膜表面光洁度堆栈（抽象数据类型）光电子学物理计算机科学纳米技术图层（电子）波长复合材料程序设计语言
网址	https://doi.org/10.1117/12.2613990
DOI	10.1117/12.2613990 doi
其它	期刊：Metrology, Inspection, and Process Control XXXVI 作者：Mohamed Zidan; Daniel Fischer; Gian F. Lorusso; Joren Severi; Danilo De Simone; et al 出版日期：2022-05-26
求助人	英俊亦巧在 2024-10-18 17:02:32 发布自上海，悬赏 50 积分
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